seo

新闻中心

联系我们

0510-88276101

行业新闻

您的当前位置:首页 > 新闻中心 > 行业新闻

光润与您分享磁控溅射镀膜常见故障及解决办法

发布时间:2019-09-03 浏览次数:载入中... 来源:http://www.grvacuum.com/
磁控溅射是物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)的一种,磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场,利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。

磁控溅射镀膜工艺在日常操作过程中有哪些常见的故障呢?

磁控溅射镀膜常见故障及解决办法

1.无法起辉

(1)直流电源故障,检查直流电源;

(2)氩气进气量小,检查氩气流量计或加大氩气进气量;

(3)真空室清洁度不够,清洁真空室;

(4)靶材绝缘度不够,检查靶是否与地短路,在通水的情况下,对地电阻应该在 50kΩ以上;

(5)磁场强度不够,检查永磁体是否消磁;

(6)真空度太差,检查真空系统。

2.辉光不稳

(1)电压电流不稳,检查电源;

(2)真空室压力不稳,检查氩气进气量及真空系统;

(3)电缆故障,检查电缆是否连接良好。

3.成膜质量差

(1)基片表面清洁度差,清洁基片表面;

(2)真空室清洁度差,清洁真空室;

(3)基片温度过大或过小,检查温控系统,校准热电偶;

(4)真空室压力过大,检查真空系统;

(5)溅射功率设置不当,检查直流电源,设置何事的设定功率。

4.溅射速率低

(1)氩气进气量过大或过小,观察辉光颜色可以判定氩气是过大还是过小,据此调整氩气进气量;检修流量计;

(2)靶材过热,检查冷却水流量;

(3)检查永磁体是否消磁。
【返回列表】
RzUF7rRMHKbTklKlWc19k0x5jm9Dh5iom86XDAuYDxeEqMM6Z3oGK+ehZReFv6slQKcobInlrVO9F/7FeT07NNDc1fjcX809nfVLGGfapOuaErwTohk53w==