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浅谈真空金属镀膜(VMD)技术在法庭科学中的应用

发布时间:2019-06-12浏览次数:载入中...来源:http://www.grvacuum.com/
真空金属镀膜技术

在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射,使其在被涂覆的物体上凝固并沉积的方法称为真空镀膜,目前在工业领域应用较多的为真空蒸镀和溅射镀膜两种镀膜技术。

真空镀膜技术真正应用是在1930年油扩散泵和机械泵技术推出后。1935年研制出采用真空沉积技术的减反射膜,并在1945年应用于眼镜片的镀膜。随着科技的不断发展,真空镀膜技术和设备发展迅速,应用于工业领域,包括建筑五金、锁具、制表、大型工件等物品的均匀镀膜等,以达到诸如增加光学镜头的透光率或反光率、使五金、锁具、塑料制品等产品美观、耐用、防腐蚀等目的。

在法庭科学领域,镀膜材料一般使用金、锌、银等金属,因此也被称为真空金属镀膜技术(VMD)。

真空金属镀膜技术在法庭科学中的应用


1970年,英国内政部(HOME OFFICE) 所属的警察科学发展部(PSDB)起先将真空镀膜技术应用于法庭科学,采用蒸发金和锌的方法成功显现出了非渗透性客体如聚合材料包装膜上的潜在手印。英国也成为全球将真空金属镀膜技术应用于物证检验的地区。

1998年,由警察科学发展部(PSDB)编著的《Fingerprint Development Techniques》被誉为手印显现技术的圣经,作为手印显现的标准化手册被世界各国警方采用。其中就对真空金属镀膜显现手印的技术手段和流程都进行了详细的描述。

2014年,新成立的英国内政部应用科学技术中心(CAST ,Centre for Applied Science and Technology )对《Fingerprint Development Techniques》进行了重新修订,结合大量现场勘查经验和科学研究成果编著了新版《Fingermark Visualisation Manual》(ISBN: 978-1-78246-234-7)。该手册不仅对1998年版本的手印显现流程进行了细化,而且对真空金属镀膜技术应用于法庭科学进行了更加详尽的分析说明,包括适用的客体种类、镀膜流程、不同镀膜流程腔体真空度的设置、蒸发舟的材料、操作规范等等,使得检验人员只要严格按照手册中的显现条件和流程进行操作即可实现比较佳的镀膜效果。

*CAST是英国政府的核心部门,由超过200名科学家和工程师组成,主要提供专家技术服务、技术创新发明以及从科学和技术角度提供前沿技术支持。



近几年,国内市场上将真空镀膜应用于手印显现的设备陆续出现,其中大多是经改装的工业用真空镀膜设备。但工业用真空镀膜设备由于其设计目的并非用于物证检验,因此在镀膜流程控制上无法满足手印显现的要求。服务于法庭科学的真空金属镀膜手印显现设备,其基本原理也是在密闭高真空环境下(10-4毫巴级)通过镀一种金属或多种金属显现物证上的潜在手印,但其在产品的设计上与工业用的真空镀膜设备有着诸多本质区别。

好的法庭科学专用真空金属镀膜手印显现设备应当具备如下特性:

*根据使用金属(如金、锌等)的不同控制腔体内的真空度。

*当显现流程从镀金转化到镀锌时,能够自动调节腔体内的真空度,保证比较佳显现效果。不同金属原子在高真空环境中飞行的速度以及附着客体表面的能力不同,需要根据金属的原子序数准确控制腔体内的真空度,真空度过高或过低都会影响显现效果。

*能够保证在不同的物证客体上都能实现比较好的显现效果,包括非渗透性客体、半渗透性客体和渗透性客体。现场提取的物证丰富多样,各种客体不具备工业应用的基片表面光滑的特性,而是表面粗糙不平,因此无法采用工业产品膜厚计技术,通过测量镀膜厚度的方法显现手印。

*具备大尺寸观察窗口,并配备腔体内高亮度高色温照明光源,通过在腔体内放置控制样本的方式,时刻观察显现效果,防止过度显现或显现不足。



*不影响后续DNA检验并能防止交叉污染。如果手印遗留条件不佳,就要考虑在手印显现后进行DNA检验。此时,腔体内真空度的精确控制是关键,过高的真空度将造成脱落细胞的损失。同时,为了防止物证交叉污染,腔体内表面应采用防腐蚀的材料,以便能够采用化学方法和物理方法进行清洁、灭活DNA,不对下一次物证显现造成DNA交叉污染。

*丰富的物证固定装置,适应不同形态的物证;腔体内的蒸发舟必须采用中置设计,以保证镀膜均匀,达到比较佳显现效果。


*操作简便,无需繁杂的机械控制,通过简单的菜单控制即可完成手印显现过程。

*设备可靠性高。腔体内高真空度是镀膜的必要条件,因而高性能、稳定可靠的真空泵是真空镀膜设备的关键部件,高端的真空镀膜手印显现设备配备多级真空泵,包括机械泵和油扩散泵,可在数分钟内实现真空度达到10-4 毫巴。
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